ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

全球靶材企业（如JX日矿、三井矿业）已建立完善回收体系。中国厂商如先导、阿石创也在加速布局。这场围绕“铟循环”的闭环革命，正在重塑显示材料产业的竞争格局与可持续未来。谁掌握了回收技术，谁就扼住了产业链的咽喉。

铟属稀有金属,是一种重要的电子工业材料,在高技术领域有着广泛的应用,主要集中在半导体、透明导电涂层、电子器件、荧光材料、金属有机物等方面。它在地壳中非常稀有而且分散,又称之为稀散金属,铟在地壳中的丰度很低,多种文献报道不一,普遍认为仅011μg/g,至今以其为主要成分的矿床尚未发现,它通常以微量(01005%)的组分共生于与其性质类似的锌、铅、铜和锡等矿物上,一般是从锌、铅、铜和锡等重金属冶炼的烟尘、熔渣中回收生产。

ITO靶材回收流程：

1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。

2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层

3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层

4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素

5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物

6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途