ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

成熟闭环流程包括：

机械剥离：物理分离靶材与金属背板。

溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。

铟锡深度分离：

选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。

溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。

高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。

再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。

产业意义：从成本中心到价值引擎

闭环回收带来的不仅是环保效益：

供应链：降低对原生铟矿进口依赖，抵御价格波动风险。

显著降本：再生铟成本可低于原生铟30%以上，靶材企业毛利率提升。

品牌增值：满足苹果、三星等巨头对再生材料比例的硬性要求。

技术壁垒：分离提纯工艺构成核心竞争力。

全球靶材企业（如JX日矿、三井矿业）已建立完善回收体系。中国厂商如先导、阿石创也在加速布局。这场围绕“铟循环”的闭环革命，正在重塑显示材料产业的竞争格局与可持续未来。谁掌握了回收技术，谁就扼住了产业链的咽喉。