成熟闭环流程包括：

机械剥离：物理分离靶材与金属背板。

溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。

铟锡深度分离：

选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。

溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。

高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。

再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。

产业意义：从成本中心到价值引擎

ITO靶材回收流程：

1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。

2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层

3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层

4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素

5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物

6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途

ITO靶材回收市场需求持续增长，尤其在显示面板和光伏行业。铟价高企，促使更多企业关注废靶材的回收利用。随着技术进步，回收工艺趋于环保。

常见问题答疑：

1. 废靶材回收价格如何计算？

主要根据靶材剩余铟锡含量、市场行情、回收工艺等因素浮动。

2. 回收的铟锡纯度能否满足再次制靶需求？

取决于回收及精炼工艺，多数高品质回收企业可将纯度提升至制靶要求。

3. 回收周期多久？

一般为12周，具体视回收量和工艺流程而定。

在当今环保意识日益增强的时代，铟靶材的回收再利用成为了行业内关注的焦点。ITO靶材，作为铟锡氧化物靶材的简称，广泛应用于平板显示、太阳能电池等领域，其回收价值不言而喻。