成熟闭环流程包括：

机械剥离：物理分离靶材与金属背板。

溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。

铟锡深度分离：

选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。

溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。

高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。

再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。

产业意义：从成本中心到价值引擎

ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材回收注意事项：

措施：处理酸碱和废液时需注意和环保。

环保合规：废液和残渣需达标处理，避免二次污染。

回收效率：合理选择工艺，提高铟、锡的回收率和纯度。

从用过的ITO靶材中回收氧化铟的另一种方法是使用离子交换树脂，离子交换树脂用于选择性地从酸性溶液中吸附铟，然后用酸性溶液将铟从树脂中洗脱出来，并通过焙烧得到氧化铟。