废ITO靶材回收的核心挑战在于：
成分复杂：除In₂O₃、SnO₂外，含粘结剂、金属背板（铜/钼）等。
高纯度要求：再生铟纯度需达99.99%以上，杂质含量需严格控制在ppm级，否则影响新靶材性能。
铟锡分离：分离铟锡是实现价值化的关键。
闭环工艺：价值再造的精益之路
ITO靶材回收的必要性
1. 资源稀缺：铟为稀有金属，资源有限，价格昂贵。
2. 成本控制：回收废旧ITO靶材可降低企业原材料采购成本。
3. 环保要求：减少废弃物排放，符合绿色生产理念。
ITO靶材回收流程：
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
从用过的ITO靶材中回收氧化铟的另一种方法是使用离子交换树脂，离子交换树脂用于选择性地从酸性溶液中吸附铟，然后用酸性溶液将铟从树脂中洗脱出来，并通过焙烧得到氧化铟。
