显示面板制造：是铟靶的应用领域，约占总需求的 52%，主要用于液晶显示器（LCD）与有机发光二极管（OLED）的 ITO 透明导电膜制备，可使面板具有良好的导电性和透明性。

超高密度成型：超高密度成型工艺（≥99.5%）可使靶材具有更好的性能，提高在真空溅射过程中的稳定性和使用寿命。

晶粒定向控制：晶粒定向控制技术能够控制铟靶的晶粒尺寸和方向，提升溅射薄膜的质量和性能，满足高端应用领域的需求。

粉末冶金法：将铟氧化物和锡氧化物粉末均匀混合，随后进行预烧结，以获得初步的靶材结构。预烧结步骤通常在相对低温下进行，目的是通过部分熔融促进粉末颗粒的结合，同时防止过早的晶粒长大。粉体粒径分布的控制是该方法中的关键一环。

光伏技术领域：在太阳能电池中，ITO 薄膜作为前电极材料，具有高透明性，能够保证光线有效进入吸收层，从而提升光电转换效率，适用于 CIGS、CdTe 等薄膜太阳能电池技术。

其他领域：在智能窗、透明发热膜、红外反射膜等领域也有应用，满足智能建筑和汽车工业中的透明导电需求。